ASML繼續向國內出貨光刻機，預計今年最高出貨54億歐元的光刻機。

限制ASML出貨的局面，一直都沒有變。

從瓦森納協議限制EUV光刻機出貨，到芯片規則被修改，限制ASML出貨主流光刻機，再到三方協議，限制日荷出貨主流光刻機等半導體設備。

ASML最先承認三方協議的存在，并表示將繼續像國內出貨光刻機，華為Mate60Pro開售后，ASML獲得了4個月的許可，繼續向國內出貨2000i等型號的光刻機。

今年早些時候，ASML正式承認，部分主流光刻機交付遇到問題，預計向國內的出貨量，將會受到10%到15%的影響。

數據顯示，2023年ASML向國內交付了超64億歐元的光刻機，占比超29%，這意味著ASML預計今年向國內出貨超50億歐元的光刻機。

一直被限制，但ASML卻一直堅持出貨，原因有三點。

首先，國內市場巨大，這是ASML不能忽視的，目前的出貨量，僅滿足國內市場需求的一半。

要知道，2023年可是向國內出貨了超64億歐元的光刻機，如果放開出貨，國內將必然會成為ASML最大的市場。

ASML總裁早就公開表示，如果不是瓦森納協定，國內市場將會成為EUV光刻機最大的市場，一方面是國內是全球最大的芯片消費市場，另一方面大量的芯片正在國內制造。

新能源汽車又給芯片帶來了巨大的機遇，這個機遇比智能手機還大，而國內是全球最大的新能源汽車產銷國。

其次，國內芯片半導體技術突破速度很快，麒麟9000s芯片已經實現了國內造。

消息稱，今年將會又比麒麟9000s更先進的芯片。

光刻機方面，國內產業鏈已經有能力打造DUVi光刻機，可以用于7nm等工藝。

ASML的光刻機技術基本到頭了，雖然提出了新的想法，但能否實現，還是一個未知數，所以ASML加速在國內市場布局，去年新增超200個崗位，開放了光刻等重要崗位。

ASML也明確表示，與國內市場脫鉤不切實際，尤其是在芯片半導體領域。

最后，ASML的光刻機技術雖然先進，但重要性卻在下滑，原因其他先進芯片技術，在一定程度上，替代了先進光刻機。

例如，英特爾等用NAEUV光刻機量產2nm芯片，但台積電仍用EUV光刻機，但采用GAA工藝。

過去提升芯片性能，主要依賴光刻機，縮小芯片制程。

如今有了先進封裝技術、堆疊芯片技術，兩者都不改變芯片制程，前者可以提升30%的性能，后者讓多核性能翻倍。

關鍵是，還有NIL工藝、超線程技術等，前者可將芯片制程縮小至5nm,后者能夠讓7nm芯片發揮超5nm的性能，華為Mate60Pro就是例子。

所以ASML一直都想法出貨，而且出貨更多光刻機，讓ASML的光刻機更普及，只有這樣才能不會被其他技術所替代。

對于ASML堅持出貨，你們怎麼看，歡迎留言探討分享。